创业项目背景图片 某大中型半导体器件制做制造业的企业坐落在长角形省市，主要分娩晶圆和清理芯片。在分娩方式中，晶圆分割和镜面抛光一阶段诞生大规模碾磨液焦化废水，单日废气排放物量约50吨。考虑到焦化废河中有高含量悬浮物物、金属质亚铁离子及有机化学“化学试剂，简单废气排放物会对自然环境会造成严峻污染源，制造业的企业紧缺建造专业的清理设备。 污废水 组成成分及源于 碾磨液化工废水最重点因素于晶圆生产制作中的催化机械化打蜡 （CMP）工艺流程，最重点的固体废弃物也包括： 悬浮按钮科粒物 ：二脱色硅、脱色铝等考虑科粒，粒度分布在0.1-1μm，溶液浓度达2000mg/L。 重金属铁离子 ：铜、铁、锌等，发源打磨抛光垫划痕及晶圆面不锈钢层，铜铁离子浓硫酸浓度约50mg/L。 有机化学含有剂 ：也包括单单从表面灵活性液、脱硫剂等，COD值在800-1200mg/L。 酸酸碱度性物品 ：pH值动荡大，通常情况下在2-11相互间。 除理工艺设计过程 争对废水办理方法因素，通过“预办理+什么是生化+深度的办理”组合成技艺： 上下调整池 ：营养均衡饮用水质容量，加上强酸强碱调pH至普通。 混凝土沉淀出的 ：加药PAC（缔合氯化铝）和PAM（聚乙烯酰胺），的还原悬停物和橡胶胶体部分，沉降后SS的还原率>90%。 催化反应空气氧化 ：利用Fenton制剂（H₂O₂+Fe²⁺）挥发设计增长剂，COD我们要除率达60%。 菌物加工处理 ：MBR膜生物体反应迟钝器进两步分解已满巧妙物，COD调至100mg/L下列。 正离子互相交换 ：专业级硅橡胶吸出铜正离子，满水后铜份量<0.5mg/L。 砂滤+特异性炭吸附 ：确保出水量清辙，完成《污水处理终合排出规范化》（GB8978-1996）两级规范化。 结果是功能 机系统启动稳定可靠后： SS<10mg/L，COD<60mg/L，铜亚铁离子<0.3mg/L。 使用率达40%，结余达到标准排出，年少废液排出1.7万吨。 加工成本费约15元/吨，远远低于职业均匀。