某光电器件制造出厂家因晶圆清洁制作工序所产生含氨废水净化处理方法，出水量200吨/天。废水净化处理方法中除化学需氧量外还内含氟化物和少量高价属，净化处理困难程度大。地区释放的标准标准化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理材料及源 晶圆除垢废水处理方法（核心来原）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工序工业废水：含氢化物发生器铜、镍等高价属，pH值下降大 CMP精磨焦化废水：含硅粉末及挥发酚 解决施工工艺施工工艺 用于"电学析出+膜剥离+折点氯化"三人组合工艺技术： 预清理 ：加药CaCl2除氟，控制pH在7.5-8. 超滤膜整体 ：祛除0.01μm这粒子物 反构建提液 ：将氯离子精炼至1000mg/L超过 折点氯化 ：准确度掌握氯加药系统量，将氟化物转变为氢气 铁离子交互 ：安全保障巨资属未达标 以后感觉 化学需氧量可靠＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属纯度小于论文检测限 水回收利用率达75% 活性污泥引起量才能减少40%